更新時(shí)間：2025-08-13
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產(chǎn)品型號(hào)：CHSQ-50-III
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
| 品牌 | 其他品牌 | 濕度范圍 | 95%RH |
|---|---|---|---|
| 控溫范圍 | Rt+3-60℃ | 容量規(guī)格 | 50升 |
| 溫度均勻性 | ±0.3(@37)℃ | 價(jià)格區(qū)間 | 2萬(wàn)-5萬(wàn) |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,食品/農(nóng)產(chǎn)品,化工,生物產(chǎn)業(yè) |
三氣細(xì)胞培養(yǎng)箱低氧恒溫裝置4.O2氣體濃度小于19.8%時(shí)，采用高純N2氣體和CO2氣體，保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性。
5.O2氣體濃度大于23%時(shí)，采用高純O2氣體和CO2氣體，保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性。
6.箱內(nèi)采用微風(fēng)循環(huán)方式，使空氣循環(huán)接近自然界空氣對(duì)流，縮短溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的恢復(fù)時(shí)間，確保溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的均衡性。
7.箱門(mén)打開(kāi)時(shí)，電磁閥自動(dòng)關(guān)閉微風(fēng)循環(huán)自動(dòng)停止，減少氣體損失節(jié)約氣源，減少外界空氣進(jìn)入箱內(nèi)而造成的污染。
8.單獨(dú)的門(mén)溫控制系統(tǒng)，使箱內(nèi)恒溫控制極少受到環(huán)境溫度變化的影響。
9.溫度、氣體濃度，均采用數(shù)字顯示，直觀、清晰、準(zhǔn)確。
10.具有多種保護(hù)功能，當(dāng)顯示溫度超過(guò)預(yù)置溫度時(shí)，可自動(dòng)切斷全部加熱電源。具有獨(dú)立的超溫繼電保護(hù)功能，保證溫度不超過(guò)預(yù)置值。11.水盤(pán)自然蒸發(fā)加濕，濕度達(dá)到95％，304不銹鋼材質(zhì)，圓弧，易清潔。
12.滅菌系統(tǒng)：紫外燈滅菌，靈活可控，操作時(shí)間短。
為解決上述現(xiàn)有技術(shù)方案中的不足，本發(fā)明提供了一種校正方便、取樣管道內(nèi)無(wú)凝水的細(xì)胞培養(yǎng)箱。
本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：
一種細(xì)胞培養(yǎng)箱，所述細(xì)胞培養(yǎng)箱包括培養(yǎng)腔，所述培養(yǎng)腔內(nèi)設(shè)置溫度傳感器、加熱部件；所述細(xì)胞培養(yǎng)箱進(jìn)一步包括：
檢測(cè)腔，所述檢測(cè)腔內(nèi)部設(shè)置：
管道，所述管道連通所述培養(yǎng)腔，取樣培養(yǎng)腔內(nèi)的氣體；
DI二管道，所述DI二管道連通所述培養(yǎng)腔，將取樣的氣體送回培養(yǎng)腔內(nèi)；
檢測(cè)儀，所述檢測(cè)儀分析通過(guò)管道取樣的氣體；
DI二溫度傳感器，所述DI二溫度傳感器檢測(cè)取樣的氣體的溫度；
加熱器，所述加熱器設(shè)置在所述檢測(cè)腔內(nèi)。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱，可選地，所述細(xì)胞培養(yǎng)箱進(jìn)一步包括：
隔熱層，所述隔熱層設(shè)置在所述檢測(cè)腔和培養(yǎng)腔之間。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱，優(yōu)選地，所述加熱部件包括加熱片，設(shè)置在培養(yǎng)腔內(nèi)的頂壁、下壁和側(cè)壁。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱，優(yōu)選地，所述溫度傳感器設(shè)置在所述培養(yǎng)腔內(nèi)的上部。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱，可選地，所述細(xì)胞培養(yǎng)箱進(jìn)一步包括：
過(guò)濾器，所述過(guò)濾器設(shè)置在所述管道的入口端。
本發(fā)明的目的還在于提供了上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱的工作方法，該發(fā)明目的是通過(guò)以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)的：
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱的工作方法，所述工作方法包括以下步驟：
(A1)溫度傳感器輸出溫度值A(chǔ)；DI二溫度傳感器輸出溫度值B；
(A2)判斷溫度差(B-A)是否處于區(qū)間[ΔT+C，ΔT+D]內(nèi)，C、D為常數(shù)；ΔT＝k•x2+0.013•x+0.05；k＝-2×10-8•y2-3×10-6•y+0.0001，x為培養(yǎng)腔中心與頂壁的間距，y為培養(yǎng)腔中心到側(cè)壁的間距；x、y的單位是cm；
如溫度差處于上述區(qū)間內(nèi)，無(wú)需調(diào)整；
如溫度差不處于上述區(qū)間內(nèi)，進(jìn)入下一步驟；
三氣細(xì)胞培養(yǎng)箱低氧恒溫裝置技術(shù)參數(shù)
型號(hào) | CHSQ-50-III | CHSQ-80-III | CHSQ-100-III | CHSQ-160-III | CHSQ-200-III |
顯示屏 | 5.0寸觸摸屏 | ||||
公稱容積（L） | 50 | 80 | 100 | 160 | 200 |
溫度控制范圍（℃） | Rt+3-60℃ | ||||
溫度波動(dòng)度（℃） | ±0.2(@37) | ||||
溫度均勻性（℃） | ±0.3(@37) | ||||
C02濃度控制范圍（VOL%） | 0-20 | ||||
C02濃度控制誤差（%） | ±0.1 | ||||
02濃度控制范圍（VOL%） | 1-95 | ||||
02濃度控制誤差（%） | ±0.3 | ||||
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